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    ABB OA-ICOS™ GLA231

    ABB OA-ICOS 气体分析仪采用离轴积分腔输出光谱(OAICOS)技术,能够高精度、高灵敏度地测量HF、HCL、NH3及H2O等气体,适用于半导体晶圆厂的工艺流程检测、气相沉积室监测及FOUP监测。其多气体配置、亚ppb级浓度测量能力及优化的数据处理···...
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    详情介绍

    ABB OA-ICOS 气体分析仪采用离轴积分腔输出光谱(OAICOS)技术,能够高精度、高灵敏度地测量HF、HCL、NH3及H2O等气体,适用于半导体晶圆厂的工艺流程检测、气相沉积室监测及FOUP监测。其多气体配置、亚ppb级浓度测量能力及优化的数据处理使其具备高性能和高安全性,支持Modbus TCP输出和远程控制功能,操作简便,维护需求低。


     

    功能和优势


    • 支持 HF、HCI、NH3 的单气体或多气体配置

    • 提供高精度、准确的 H2O 测量结果

    • 提供 0-5V 和 4-20 mA 模拟输出(标配),可选Modbus TCP

    • 优化数据处理,在测量亚 ppb 级别浓度时,实现优异性能

    • 提供触控数字显示屏,显示气体浓度和分析仪的状态

    • 提供主要密码保护,确保分析仪和数据安全

    • 优化的零气性能,确保可靠地确认过程事件

    • 提供可定制的校准套件和性能认证文件包

    • 坚固耐用;所需的维护工作少且花费较低

    • 可轻松更换长期受到污染的部件(过滤器)和正常老化部件(泵隔膜)

    • 服务工程师可现场诊断并更换其他大多数部件

    • 镜面清洁可现场进行,无需在工厂费时维修

     

    技术参数

    GLA231-EAA

    项目(气体)NH₃H₂O
    精度 (1σ)<1ppb (1秒)
    <0.3 ppb (10秒)
    <0.1 ppb (100秒)
    <50 ppm (1秒)
    <20 ppm (10秒)
    <10 ppm (100秒)
    检测限 (LOD)0.3 ppb (100秒)50 ppm (100秒)
    准确性 *±0.3 ppb
    或读数的5%,以较高者为准
    >7,000 ppm
    = 1% FSD
    不同分析仪的结果差异
    (相对于平均值,10秒)
    ±0.4 ppb
    或读数的5%,以较高者为准
    ≤1000 ppm
    = ±10%
    线性测量范围高达 10,000 ppb高达 30,000 ppm
    样品流量 (ppm)1.4-2.4
    响应时间 (T₉₀, T₉₉)10秒

    GLA231-HFHC & HF

    项目(气体)HCl**HFH₂O
    精度 (1σ)<0.3 ppb (1秒)
    <0.1 ppb (10秒)
    <0.035 ppb (100秒)
    <0.1 ppb (1秒)
    <0.05 ppb (10秒)
    <0.025 ppb (100秒)
    <25 ppm (1秒)
    <10 ppm (10秒)
    <5 ppm (100秒)
    检测限 (LOD)0.1 ppb (100秒)0.075 ppm (100秒)25 ppm (100秒)
    准确性 *±0.15 ppb
    或读数的5%,以较高者为准
    ±0.1 ppb
    或读数的5%,以较高者为准

    >7000 ppm

    = 1% FSD

    不同分析仪的结果差异
    (相对于平均值,10秒)
    ±0.2 ppb
    或读数的5%,以较高者为准
    ±0.2 ppb
    或读数的5%,以较高者为准
    ≤ 1000 ppm
    = ±10%
    线性测量范围高达 2,000 ppb高达 2,000 ppb高达 30,000 ppm
    样品流量 (ppm)1.1-1.9

    响应时间 (T₉₀, T₉₉)25秒25秒

    * 适用于典型的半导体晶圆厂,在设定的19°C和23°C温度范围内,在至少1小时内,变化范围在±1°C。
    ** HCl测量仅适用于GLA231-HFHC型号的分析仪。

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